常規(guī)反相分析色譜柱柱清洗與再生的推薦步驟：

  壓力升高，色譜柱峰形發(fā)生變化如出現(xiàn)嚴(yán)重拖尾、肩峰甚至峰分岔，分離度降低，這些都強(qiáng)烈提示色譜柱受到污染?？刹捎靡韵虏襟E處理：

1. 如系統(tǒng)接有在線(xiàn)過(guò)濾器和保護(hù)柱，首先排查在線(xiàn)過(guò)濾器與保護(hù)柱，進(jìn)行更新替換。日常操作中，當(dāng)壓力升高10%或柱效降低10%時(shí)，就應(yīng)考慮更換在線(xiàn)過(guò)濾器和/或保護(hù)柱。

2. 使用高比例的有機(jī)溶劑進(jìn)行沖洗(請(qǐng)注意避免鹽析出，通?？墒褂锰荻壬叻ǎ缓缶S持在高比例甚至100%有機(jī)溶劑條件下)。此操作通?？上慈ゴ蟛糠治廴疚铩?/span>

3. 如有機(jī)溶劑清洗不能解決問(wèn)題，可采用如下方法進(jìn)行色譜柱的清洗和再生。根據(jù)樣品性質(zhì)以及你所了解的污染物性質(zhì)選擇清洗方法，用20倍柱體積(即，對(duì)于4.6x250 mm柱，相當(dāng)于80 mL)的HPLC級(jí)溶劑清洗色譜柱，將流動(dòng)相溫度升至35-55℃可提高清洗效率。

* 注意防止緩沖鹽析出，可調(diào)整為適當(dāng)比例的異丙醇和水的混合溶液

** 除非確保您的系統(tǒng)與四氫呋喃和正己烷完全兼容，否則四氫呋喃或正己烷只有在色譜柱無(wú)法用反相有機(jī)溶劑如乙腈清洗干凈時(shí)才考慮使用。降低流速及操作溫度，并盡量減少系統(tǒng)在四氫呋喃和正己烷中的暴露時(shí)間。

4. 可以考慮對(duì)色譜柱進(jìn)行倒沖，特別是當(dāng)問(wèn)題表現(xiàn)為壓力急劇升高，提示有顆粒型物質(zhì)直接堵塞于色譜柱入口端篩板處時(shí)。操作時(shí)，將色譜柱倒接，并與檢測(cè)器斷開(kāi)。使用低流速0.2 ml/min，進(jìn)行過(guò)夜沖洗，并封堵檢測(cè)器入口及出口端以免溶劑揮干產(chǎn)生氣泡。甚或，將色譜柱小心的打開(kāi)，直接更換柱入口端篩板。注意！這類(lèi)操作需要技巧，僅作問(wèn)題確實(shí)無(wú)法得到有效解決時(shí)的最后嘗試，或供某些經(jīng)驗(yàn)豐富的分析操作人員參考使用。